| 制备过程中对VO2薄膜热致相变光电性能的控制 |
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| 引用本文： | 卢勇,林理彬,邹萍,何捷,王鹏. 制备过程中对VO2薄膜热致相变光电性能的控制[J]. 激光杂志, 2000, 21(5): 19-21 |
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| 作者姓名： | 卢勇 林理彬 邹萍 何捷 王鹏 |
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| 作者单位： | [1]四川大学物理系辐射物理及技术教育部重点实验室,成都 [2]四川大学物理系四川大学分板测试,成都 |
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| 摘 要： | 本文利用真空还原Ｖ２Ｏ５的方法制备出优质对ＶＯ２薄膜；研究了不同真空还原时间ＶＯ２薄膜热致相变过程中光电性能的影响；利用ＸＰＳ、ＸＲＤ对薄膜的化学状态和结晶状态进行了研究。制备的薄膜高／低 电阻变化最大达到三个数量级，９００ｎｍ处的光学透过率在相变前后改变了４０％左右，热致相变性能优良。讨论了不同的真空还原时间下ＶＯ２薄膜热滞回线的宽度、相变温度点以及高低温光透射性能。最后给出了最佳真空还原时间。
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| 关 键 词： | VO2薄膜 热致相变 光电性能 制备过程 |
Control the optical and electrical properties of VO2 thin films during preparation process |
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| Lu Yong,Lin Libin,Zou Pin,He Jie,Wang Peng. Control the optical and electrical properties of VO2 thin films during preparation process[J]. Laser Journal, 2000, 21(5): 19-21 |
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| Authors: | Lu Yong Lin Libin Zou Pin He Jie Wang Peng |
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