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| 非晶态As_(40)S_(60-x)Se_x薄膜光黑化效应的研究 | |
| 作者姓名： | 陈光华 李贻杰 张仿清 谢才清 徐晓琴 |
| 作者单位： | 兰州大学(陈光华，李贻杰，张仿清)，中国科学院光电技术研究所(谢才清)，中国科学院光电技术研究所(徐晓琴) |
| 摘 要： | 本文主要研究了As_(40)S_(60-x)Se_x系列蒸发薄膜可逆的光黑化效应和光致结构变化,测量了光黑化的程度与样品组分、温度、入射光强及波长等因素的关系。讨论了光黑化现象的起因,认为光黑化效应是由结构无序度的变化引起的,而结构无序度的变化则是由光照后缺陷态的变化引起的。 |
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