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移相掩模为光学微细加工技术增添新武器
作者姓名:刘恩荣
作者单位:机电部第四十五研究所
摘    要:通过对国外光学微细加工技术发展现状的介绍,和对提高光学成像分辨率的各种途径的分析比较,提出了在加强光学曝光设备和抗蚀剂材料工艺开发的同时,立即着手研究移相掩模技术的主张。

关 键 词:光学 微细加工 移相掩模 掩模 加工
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