| 一台离子注入机的改进及其在BaTiO3陶瓷改性中的应用 |
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| 引用本文： | 叶明生,郭玉华.一台离子注入机的改进及其在BaTiO3陶瓷改性中的应用[J].微细加工技术,1996(1):49-52. |
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| 作者姓名： | 叶明生 郭玉华 |
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| 作者单位： | 武汉大学物理系 |
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| 摘 要： | 本文介绍了武汉大学２００ｋｅＶ离子注入机的改进情况，用贝纳斯离子源替换了原有的高频离子源，使输出流强由几十微安提高到毫安级，离子种类由原来单电荷的气体离子扩展到多电荷离子和金属离子。用该机对半导体ＢａＴｉＯ３陶瓷注入Ｃｕ离子，使材料的ＰＴＣＲ突跳幅度增加，室温电阻率提高，证实Ｃｕ（２＋）离子在ＰＴＣＲ材料晶界起着电子陷阱作用。
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| 关 键 词： | 离子注入机 贝纳斯离子源 BaTiO_3改性 PCTR特性 |
A IMPROVED ION IMPLANTER AND ITS APPLICATION IN THE MODIFICATION OF BaTiO_3 CERAMICS |
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| Ye Mingcheng,Guo Yuhua, Gao Quanxiang,Fu Qiang, Peng Yougui.A IMPROVED ION IMPLANTER AND ITS APPLICATION IN THE MODIFICATION OF BaTiO_3 CERAMICS[J].Microfabrication Technology,1996(1):49-52. |
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| Authors: | Ye Mingcheng Guo Yuhua Gao Quanxiang Fu Qiang Peng Yougui |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ion implanter ion source modification of ceramics |
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