| 一台离子注入机的改进及其在BaTiO3陶瓷改性中的应用 |
| |
| 引用本文： | 叶明生 郭玉华. 一台离子注入机的改进及其在BaTiO3陶瓷改性中的应用[J]. 微细加工技术, 1996, 0(1): 49-52 |
| |
| 作者姓名： | 叶明生 郭玉华 |
| |
| 作者单位： | 武汉大学物理系 |
| |
| 摘 要： | 本文介绍了武汉大学２００ｋｅＶ离子注入机的改进情况，用贝纳斯离子源替换了原有的高频离子源，使输出流强由几十微安提高到毫安级，离子种类由原来单电荷的气体离子扩展到多电荷离子和金属离子。用该机对半导体ＢａＴｉＯ３陶瓷注入Ｃｕ离子，使材料的ＰＴＣＲ突跳幅度增加，室温电阻率提高，证实Ｃｕ（２＋）离子在ＰＴＣＲ材料晶界起着电子陷阱作用。
|
| 关 键 词： | 离子注入机；贝纳斯离子源；BaTiO_3改性；PCTR特性 |
A IMPROVED ION IMPLANTER AND ITS APPLICATION IN THE MODIFICATION OF BaTiO_3 CERAMICS |
| |
| Ye Mingcheng,Guo Yuhua, Gao Quanxiang,Fu Qiang, Peng Yougui. A IMPROVED ION IMPLANTER AND ITS APPLICATION IN THE MODIFICATION OF BaTiO_3 CERAMICS[J]. Microfabrication Technology, 1996, 0(1): 49-52 |
| |
| Authors: | Ye Mingcheng Guo Yuhua Gao Quanxiang Fu Qiang Peng Yougui |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | ion implanter ion source modification of ceramics |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
