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CFC与HCFC制冷剂替代工作的现状与进展——记华盛顿96国际臭氧层保护技术会议的一个侧面
作者姓名:朱明善
作者单位:清华大学热能工程系
摘    要:1996.10.21—23在华盛顿举行了一年一度的国际臭氧层保护技术会议(今年以前名称为国示CFC与哈龙替代物会议),与会代表约1500人,来自世界各地。我国与会代表有清华大学朱明善教授、浙江化工研究院马晓高等2倍、表岛海尔集团等3人和华东科技大学翁文兵同志。会议分设制冷空调、哈

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