| 200O年国内外公司厂商有关氯碱电解技术在中国申请专利的进展与特点 |
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| 引用本文： | 陈士平.200O年国内外公司厂商有关氯碱电解技术在中国申请专利的进展与特点[J].氯碱工业,2001(7):10-15. |
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| 作者姓名： | 陈士平 |
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| 作者单位： | 北京化工机械厂 |
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| 摘 要： | 2000年中国专利与氯碱电解技术有关的内容有24件,包括单极离子膜电解槽;复极离子膜电解槽;阳极修复涂层;阴极;生产高纯KOH用阳离子膜;汞合金电解单元和膜电解单元并联技术;气体扩散电极氯化钠电解槽;隔膜电解槽;有机电解合成等.
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| 关 键 词： | 氯碱离子膜电解槽 隔膜电解槽 气体扩散电极 中国专利 |
| 文章编号： | 1008-133(2001)07-0010-06 |
| 修稿时间： | 2001年2月14日 |
The progress and characteristics of China patents concerning chlor-alkali electrolytic technologiesapplied for by domestic and foreign companies in the year 2000 |
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