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| 电沉积液初始pH值对电沉积制备钽基RuO2·nH2O薄膜的影响 | |
| 引用本文： | 甘卫平,覃政辉,刘泓,师响.电沉积液初始pH值对电沉积制备钽基RuO2·nH2O薄膜的影响[J].材料导报,2008,22(5):143-145. |
| 作者姓名： | 甘卫平 覃政辉 刘泓 师响 |
| 作者单位： | 中南大学材料科学与工程学院,长沙,410083 |
| 基金项目： | 国防科学技术工业委员资助项目 |
| 摘 要： | 以RuCl3·2H2O水溶液为电沉积液,通过恒流电沉积法在钽箔上电沉积一层RuO2·nH2O薄膜;研究了电沉积液初始pH值对制备RuO2·nH2O薄膜的影响.分别采用SEM、EDS、XRD、粒度分析仪(DELSA 440SX analyzer control)对薄膜的形貌、薄膜元素、溶胶的Zeta电位及薄膜的物相进行观察与测试.结果表明,电沉积液初始pH值越高,RuO2·nH2O薄膜越疏松,龟裂纹越大,与基体结合力也越差.初始pH值为2.3时,薄膜的孔隙率最佳,综合性能指标最好. |
| 关 键 词： | 电沉积 RuO2·nH2O薄膜 Zeta电位 pH值 超级电容器 |
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