| Mo+C离子注入多弧离子镀TiN薄膜研究 |
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| 引用本文： | 王玉,陶冶,刁训刚,庞浩.Mo+C离子注入多弧离子镀TiN薄膜研究[J].物理测试,2009,27(3). |
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| 作者姓名： | 王玉 陶冶 刁训刚 庞浩 |
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| 作者单位： | 1. 北京航空航天大学材料科学与工程学院,北京,100191
2. 北京航空航天大学理学院,北京,100191 |
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| 摘 要： | Mo+C离子注入TiN薄膜后,在TiN薄膜注入层形成纳米纤维结构.纳米纤维丛排列整齐,结构完整,长度较长,均匀弥散在TiN晶体中.在距离表面深度为50～150 nm的区域,也能够产生TiN纳米纤维,但长度较短,排列基本规则.能谱分析显示,注入能量为80 keV的Mo离子注入TiN薄膜表面内的注人投影射程为50 Tim左右,但离子注入的影响区域远大于投影射程;新生成的纳米纤维丛为富Mo相,Mo含量为17%～25%.Mo+C二元注入的表面强化效果优于Mo一元注入,较高剂量的Mo+C注入条件下,TiN薄膜表面显微硬度更高.
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| 关 键 词： | 多弧离子镀 TiN 离子注入 TEM |
Research on Mo+C Implantation into TiN Film by Multi-arc Ion Plating |
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| WANG Yu,TAO Ye,DIAO Xun-gang,PANG Hao.Research on Mo+C Implantation into TiN Film by Multi-arc Ion Plating[J].Physics Examination and Testing,2009,27(3). |
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| Authors: | WANG Yu TAO Ye DIAO Xun-gang PANG Hao |
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