| 新型太阳光谱选择性吸收涂层的热稳定性 |
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| 引用本文： | 申越,史月艳,王凤春. 新型太阳光谱选择性吸收涂层的热稳定性[J]. 太阳能学报, 2002, 23(5): 571-574 |
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| 作者姓名： | 申越 史月艳 王凤春 |
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| 作者单位： | 清华大学电子工程系,北京,100084 |
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| 摘 要： | 利用铝合金靶 (LY13) 在氩气和空气气氛中进行直流反应溅射 ,可以得到渐变型或干涉型太阳光谱选择性吸收涂层。当氩气与空气之比大于 0 14～ 0 16时得到由AlxOy 和AlNx 组成的纯介质膜 (AlxOy AlNx)其折射率 (n)和消光系数 (k)分别为 1 6 5～ 1 88和 0 0 0 2～ 0 .0 0 5。将AlxOy AlNx 膜和纯AlN膜作为减反射膜分别沉积在具有相同吸收层的样品上 ,在真空压强 4 5× 10 3 Pa,4 0 0℃下烘烤 30min ,AlxOy AlNx 比AlN更稳定。在高硼硅玻璃和抛光不锈钢上 ,沉积了厚度约为 2 5 0nm的吸收涂层 (AlxOy AlNx Al)和 6 0nm厚的减反射层 (AlxOy AlNx)构成太阳光谱选择性表面。真空中 4 0 0℃、5 0 0℃、6 0 0℃ ,烘烤 30min后 ,其α/ε反而由 11 4升高至 14 4 6 ;5 5 0℃烘烤4 0h与 4 5 0℃烘烤 10h相比仅仅发射率稍微有点升高 ,其吸收比不变。试样在空气中 35 0℃烘烤 10h与真空中4 5 0℃烘烤 10h的结果相当接近 ,它们的α/ε分别是 13 0和 13 2 9。
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| 关 键 词： | 太阳光谱 选择性吸收涂层 热稳定性 减反射层 |
| 文章编号： | 0254-0096(2002)05-0571-04 |
| 修稿时间： | 2001-09-26 |
STUDY ON THERMAL STABILITY OF SOLAR SELECTIVE ABSORBING SURFACES WITH NEW MATERIAL |
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| Shen Yue,Shi Yueyan,Wang Fengchun. STUDY ON THERMAL STABILITY OF SOLAR SELECTIVE ABSORBING SURFACES WITH NEW MATERIAL[J]. Acta Energiae Solaris Sinica, 2002, 23(5): 571-574 |
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| Authors: | Shen Yue Shi Yueyan Wang Fengchun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | anti reflection layer solar selective absorbing surface thermal stability |
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