极端头端面倾斜的磁透镜场分布和象差的理论研究

高分辨本领电子光学仪器(例如电子显微镜)要求电子透镜具有严格的旋转对称性,但是实际的电子透镜存在着非旋转对称的缺陷,从而影响了仪器的质量。在这些缺陷中,极端头的端面倾斜目前还没有研究过。 本文计算和讨论了磁透镜极端头端面倾斜所引起的电子光学象差,作者应用数理方法(分离变数法)得到了端面倾斜情况下场分布的严格解析表达式;当倾斜为微扰时计算了非旋转对称象差以及它们与几何参量的关系;得出了高斯象平面上轴上象散圆斑大小;最后讨论了高斯轨迹的微扰及其象差图形。结果表明:轴上象散椭圆斑和端面倾斜角度正切的平方成正比,由此给出了极端头端面倾斜的加工容差。 本文所用方法与所得结果均适用于研究静电透镜。