| 微米金刚石薄膜的制备与场发射研究 |
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| 引用本文： | 高金海,张武勤,李桢.微米金刚石薄膜的制备与场发射研究[J].电子器件,2016,39(1). |
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| 作者姓名： | 高金海 张武勤 李桢 |
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| 作者单位： | 郑州师范学院 |
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| 基金项目： | 教育部科学技术重点资助项目，河南省高等学校青年骨干教师资助计划项目 |
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| 摘 要： | 利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）法，在镀金属钛层的陶瓷基底上面，调整优化沉积参数，制备出了碳膜。通过各种仪器分析了碳膜的内部结构和表面形貌，证明该碳膜是微米金刚石薄膜。进一步将微米金刚石薄膜作为场发射阴极材料，测试了其场致电子发射特性。稳定发射状态下的开启电场为1.15V/μm, 在3.35V/μm的电场下，其场发射电流密度为0.81mA/cm2，发射点密度约为104/ cm2。并对其发射机理进行了研究。
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| 关 键 词： | 微米金刚石薄膜，场致电子发射，微波等离子体化学气相沉积 |
Synthesis and field emission properties of diamond microcrystalline |
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