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| 掩模光栅微形变控制方法的研究 | |
| 引用本文： | 李连进,王惠斌.掩模光栅微形变控制方法的研究[J].微细加工技术,2003(1):22-26. |
| 作者姓名： | 李连进 王惠斌 |
| 作者单位： | 1. 天津理工学院机械工程系,天津,300191;天津钢管有限责任公司钢管研究所,天津,300301 2. 天津钢管有限责任公司钢管研究所,天津,300301 |
| 摘 要： | 为消除用X射线光刻机加工芯片时，光栅变形对图形特征尺寸的影响，提出了用外力控制掩模光栅微小变形方法。用理论分析和有限元计算相结合的方法分析掩模光栅在外力作用下的微小变形及其误差，并对实际结构模型进行实验验证，得到了满足使用要求的最佳设计参数。 |
| 关 键 词： | 掩模 X射线 形变 压力 |
| 文章编号： | 1003-8213(2003)01-0022-05 |
| 修稿时间： | 2002年8月28日 |
Study on Control Method of Very Small Distortion of Mask |
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| Abstract: | |
| Keywords: | mask X-ray distortion pressure |
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