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| YAGG:Tb,Gd荧光薄膜及其发光性能的研究 | |
| 引用本文： | 张晓松,董孝义,李岚,张艳芳,李江勇,董冬青.YAGG:Tb,Gd荧光薄膜及其发光性能的研究[J].光电子．激光,2008,19(5):636-640. |
| 作者姓名： | 张晓松 董孝义 李岚 张艳芳 李江勇 董冬青 |
| 作者单位： | 1. 光电信息技术教育部重点实验室,现代光学研究所,南开大学,天津,300071;天津市光电显示材料与器件重点实验室,天津理工大学,天津,300191 2. 光电信息技术教育部重点实验室,现代光学研究所,南开大学,天津,300071 3. 天津市光电显示材料与器件重点实验室,天津理工大学,天津,300191 |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划) , 天津市自然科学基金 |
| 摘 要： | 用电子束蒸发方法在ITO基片上生长YAGG:Tb,Gd荧光薄膜,并经不同条件下退火处理.分别用X射线衍射、X 射线光电子能谱、扫描电子显微镜、光致发光谱,表征YAGG:Tb,Gd荧光薄膜的结构、成分、形貌、发光性能.实验表明随着温度的升高,薄膜的结晶程度提高,弥补了薄膜晶体表面的表面缺陷,提高了薄膜的光致发光性能,同时发现光致发光谱中的谱线加宽. |
| 关 键 词： | YAGG:Tb Gd 荧光薄膜 电子束蒸发 退火处理 |
| 文章编号： | 1005-0086(2008)05-0636-04 |
| 修稿时间： | 2007年6月7日 |
Preparation and luminescence properties of YAGG:Tb,Gd thin films |
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| ZHANG Xiao-song,DONG Xiao-yi,LI Lan,ZHANG Yan-fang,LI Jiang-yong,DONG Dong-qing.Preparation and luminescence properties of YAGG:Tb,Gd thin films[J].Journal of Optoelectronics·laser,2008,19(5):636-640. | |
| Authors: | ZHANG Xiao-song DONG Xiao-yi LI Lan ZHANG Yan-fang LI Jiang-yong DONG Dong-qing |
| Affiliation: | ZHANG Xiao-song1,2,DONG Xiao-yi1,LI Lan2,ZHANG Yan-fang2,LI Jiang-yong2,DONG Dong-qing2(1.Key Laboratory of Opto-electronic information , technology,Insititute of modern optics,Nankai University,Tianjin 300071,China,2.Tianjin Key Laboratory for Photoelectric Materials , Devices,Tianjin University of technology,Tianjin 300191,China) |
| Abstract: | |
| Keywords: | YAGG:Tb Gd thin films electron beam evaporation Annealing process |
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