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HgCdTe低压回流液相外延生长
引用本文:陈新强,沈寿珍,俞振中,金刚.HgCdTe低压回流液相外延生长[J].红外与毫米波学报,1986,5(5).
作者姓名:陈新强  沈寿珍  俞振中  金刚
作者单位:中国科学院上海技术物理研究所 (陈新强,沈寿珍,俞振中),中国科学院上海技术物理研究所(金刚)
摘    要:在HgCdTe晶体的LPE生长过程中,汞的挥发将造成母液成分与工艺条件的不断变化,其结果甚至导致整个长晶工艺的失败。本工艺的特点是使汞蒸气压在LPE长晶管内持续地进行回流,从而达到维持母液内汞原子含量不变的目的。

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