| NiO薄膜的脉冲激光沉积及其结构和光学特性研究 |
| |
| 引用本文： | 李琳,董燕,余亮,文亚南,梁齐.NiO薄膜的脉冲激光沉积及其结构和光学特性研究[J].电子元件与材料,2013,32(8):22-25. |
| |
| 作者姓名： | 李琳 董燕 余亮 文亚南 梁齐 |
| |
| 作者单位： | 合肥工业大学电子科学与应用物理学院,安徽合肥,230009 |
| |
| 基金项目： | 安徽省自然科学基金资助项目 |
| |
| 摘 要： | 利用脉冲激光沉积法在ITO玻璃衬底上制备了NiO薄膜,利用XRD、AFM对样品的晶体结构和表面形貌进行了表征,并对其透射光谱进行了测试,研究了衬底温度及脉冲激光能量对所制NiO薄膜的结构、形貌和光学特性的影响。结果表明:在脉冲激光能量为180 mJ、衬底温度为600~700℃条件下所制备的样品为沿(111)晶面择优取向生长的多晶NiO薄膜,薄膜结晶质量良好,表面颗粒排列均匀,可见光透射率较高,禁带宽度为3.40~3.47 eV。
|
| 关 键 词： | NiO 多晶薄膜 宽禁带半导体 脉冲激光沉积 透射率 择优取向 |
Pulsed laser deposition of NiO thin films and study of their structure and optical properties |
| |
| LI Lin,DONG Yan,YU Liang,WEN Yanan,LIANG Qi.Pulsed laser deposition of NiO thin films and study of their structure and optical properties[J].Electronic Components & Materials,2013,32(8):22-25. |
| |
| Authors: | LI Lin DONG Yan YU Liang WEN Yanan LIANG Qi |
| |
| Affiliation: | (School of Electronic Science and Applied Physics,Hefei University of Technology,Hefei 230009,China) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | NiO polycrystalline thin film wide bandgap semiconductor pulsed laser deposition transmissivity preferential orientation |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
