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| 低压反应离子镀新工艺及其设备 | |
| 作者姓名： | 唐惠平 |
| 摘 要： | 采用低压反应离子镀沉积技术，制备光学薄膜质量有着显著的改善。我们利用此技术沉积的ＴｉＯ２、ＳｉＯ２和Ａｌ２Ｏ３膜，其折射率分别为２５５、１４９（５５０ｎｍ）和１６７（１１００ｎｍ），比传统的电子束蒸发好得多。用此方法，在ＣＲ３９基片每面沉积４层ＴｉＯ２／ＳｉＯ２抗反薄膜，剩余反射率≤０５％。本文简要介绍其工艺过程和相应的ＬＶＲＩＰＤ装置 |
| 关 键 词： | 低压反应离子镀 沉积技术 设备 |
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