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低压反应离子镀新工艺及其设备
作者姓名:
唐惠平
摘 要:
采用低压反应离子镀沉积技术,制备光学薄膜质量有着显著的改善。我们利用此技术沉积的TiO2、SiO2和Al2O3膜,其折射率分别为255、149(550nm)和167(1100nm),比传统的电子束蒸发好得多。用此方法,在CR39基片每面沉积4层TiO2/SiO2抗反薄膜,剩余反射率≤05%。本文简要介绍其工艺过程和相应的LVRIPD装置
关 键 词:
低压反应离子镀
沉积技术
设备
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