| 硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用 |
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| 引用本文： | 孙洋,钱可元,韩彦军,蔡鹏飞,罗毅,雷建都,童爱军.硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用[J].半导体光电,2004,25(6):477-479,483. |
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| 作者姓名： | 孙洋 钱可元 韩彦军 蔡鹏飞 罗毅 雷建都 童爱军 |
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| 作者单位： | 深圳研究生院,广东,深圳,518057;清华大学,电子工程系,集成光电子学国家重点实验室;深圳研究生院,广东,深圳,518057;清华大学,电子工程系,集成光电子学国家重点实验室;清华大学,化学系,北京,100084 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)
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国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构,以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)Si材料进行了湿法刻蚀,获得了表面平整和凸角完整的刻蚀结果,制作了用于微模塑工艺的硅基阳模,并成功地用于聚甲基乙烯基硅氧烷微分析芯片的制作上.
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| 关 键 词： | 硅材料 湿法刻蚀 凸角补偿 微分析芯片 |
| 文章编号： | 1001-5868(2004)06-0477-03 |
Fabrication of Silicon-based Microstructures and Its Application in Microchips |
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| SUN Yang,QIAN Ke-yuan,HAN Yan-jun,CAI Peng-fei,LUO Yi.Fabrication of Silicon-based Microstructures and Its Application in Microchips[J].Semiconductor Optoelectronics,2004,25(6):477-479,483. |
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| Authors: | SUN Yang QIAN Ke-yuan HAN Yan-jun CAI Peng-fei LUO Yi |
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| Affiliation: | SUN Yang~1,QIAN Ke-yuan~1,HAN Yan-jun~2,CAI Peng-fei~2,LUO Yi~ |
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| Abstract: | Single crystal (100) silicon material is wet etched with KOH solution.Based on new wet etching conditions and a novel convex corner compensation design, a silicon mold with smooth etched surface and perfect convex corner was obtained.As an application,a PMVS microchip is successfully made with moulding technology. |
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| Keywords: | silicon material wet etching convex corner compensation microchips |
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