钆的镀镍工艺及其耐蚀性研究

采用置换镀镍的方法,在磁制冷材料Gd的表面沉积一层薄膜,并利用光学显微镜(OM)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)以及能谱仪(EDS)对镀层的形貌、结构、厚度等进行分析表征。结果表明,镀层组织为单一的Ni薄膜,厚度大约为15μm。另外,通过测量动电位极化曲线和失重实验对比研究镀镍前后材料在去离子水中的腐蚀性能,结果表明,材料的腐蚀电位从-0.9247 V提高至-0.7784 V,腐蚀电流密度从0.0019 mA/cm2略微减小到0.00057 mA/cm2,镀镍后的材料相比纯Gd的平均腐蚀速率降低了约3.5倍。