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氧分压对BiFeO_3薄膜能带结构和折射率的影响及其光学表征
引用本文:宋贵芝,陈长乐,罗炳成,周超超. 氧分压对BiFeO_3薄膜能带结构和折射率的影响及其光学表征[J]. 功能材料, 2010, 41(5)
作者姓名:宋贵芝  陈长乐  罗炳成  周超超
作者单位:西北工业大学,凝聚态结构与性质陕西省重点实验室,陕西,西安,710129
基金项目:国家自然科学基金,西北工业大学基础研究基金,西北工业大学研究生创业种子基金 
摘    要:采用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了BiFeO3薄膜,通过透射光谱和椭圆光谱研究了氧分压对BiFeO3薄膜能带结构及光学性能的影响。结果表明,BiFeO3薄膜在近红外区具有良好的透射性,透射率均在80%以上,其禁带宽度Eg=(2.79±0.03)eV。随着氧分压的增大,BiFeO3薄膜中氧缺陷及氧缺陷能级减少,导致透射率和禁带宽度均增大。同时发现,OJL色散模型与Cauchy色散模型的叠合能够对BiFeO3薄膜的椭圆光谱进行很好的描述。

关 键 词:多铁材料  椭圆光谱  OJL色散模型

The influence of oxygen partial pressure on the energy band and refractive index of BiFeO3 thin films grown by RF-magnetron sputtering and its optical characterization
SONG Gui-zhi,CHEN Chang-le,LUO Bing-cheng,ZHOU Chao-chao. The influence of oxygen partial pressure on the energy band and refractive index of BiFeO3 thin films grown by RF-magnetron sputtering and its optical characterization[J]. Journal of Functional Materials, 2010, 41(5)
Authors:SONG Gui-zhi  CHEN Chang-le  LUO Bing-cheng  ZHOU Chao-chao
Abstract:
Keywords:
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