| 值得重视的田口式参数设计法 |
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| 引用本文： | 魏林.值得重视的田口式参数设计法[J].电子质量,2006(2):25-28. |
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| 作者姓名： | 魏林 |
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| 作者单位： | 北京北科汇智软件技术有限公司,北京,100083 |
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| 摘 要： | 本文着重论述了田口式参数设计法在半导体制造中对线宽的质量控制.通过田口式参数设计法,可以优化线宽控制对光刻过程步骤中的可控参数的条件,以便将不可控因素的影响降到最低.
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| 关 键 词： | 田口式参数 线宽 S/N比 光刻 晶片 晶体管 |
| 文章编号： | 1003-0107（2006）02-0025-03 |
Taguchi Parameter Design |
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| Wei Lin.Taguchi Parameter Design[J].Electronics Quality,2006(2):25-28. |
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| Authors: | Wei Lin |
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| Affiliation: | Beijing NortekSoft Technology Co. Ltd. Beijing 100083,China |
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| Abstract: | Mainly the author of this essay elaborates that Taguchi parameter design controls the linewidth quality In semiconductor manufacturing, With Taguchi parameter design, the condition of controllable parameters can be optimized In the linewidth Control of photolithography process so as to minimize the Influence of uncontrollable factors, |
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| Keywords: | Taguchi parameter linewidth Signal to Noise ratio Photolithography Wafer Transistor |
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