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CuCl2-NaCl溶液中铜氯络合物浓度的线性扫描伏安法分析
引用本文:张艳清,李和平,刘庆友,徐丽萍,张磊.CuCl2-NaCl溶液中铜氯络合物浓度的线性扫描伏安法分析[J].冶金分析,2011,31(5):1-6.
作者姓名:张艳清  李和平  刘庆友  徐丽萍  张磊
作者单位:1. 中国科学院地球化学研究所地球深部物质与流体作用地球化学研究室,贵州贵阳 550002;2. 中国科学院研究生院,北京100049;3. 安徽省地质测绘技术院,安徽合肥 230022
基金项目:中国科学院大型设备研制项目,国家自然科学基金
摘    要:在常压和室温下,对添加与不添加NaCl的CuCl2溶液进行了线性扫描伏安法研究,得到了在0 ~ -0.8 V(相对开路电势)电势区间的伏安曲线。对比两 种溶液在扫描速率为5 mV/s时的曲线,发现添加NaCl后Cu2+与Cl-形成了参与电化学反应的络合物[CuCl3]-,且伏安曲线发生了以下变化:第1个 峰的峰电位变正,第2个峰的峰电流大大降低,两个峰的峰电位差变大。以不同的扫描速率进行电势扫描,体系所表现的可逆性也不一样。扫描速率 大于10 mV/s时体系不可逆,扫描速率在1 ~ 10 mV/s的范围时第一步电极反应的可逆性良好。当体系处于可逆区时,根据峰电流值和扫描速率之间 的关系,计算得到了在电极上发生反应的络合物[CuCl3]-初始浓度为2.97×10-3 mol/L。本工作的研究思路和技术路线可望对未来湿法冶金、地 质和地球化学等领域中溶解态金属络合物的电化学分析具有重要的借鉴作用。

关 键 词:CuCl2-NaCl溶液  线性扫描伏安法  铜氯络合物  浓度  

Linear sweep voltammetry for analysis of the concentration of copper chloride complex in CuCl2-NaCl solution
ZHANG Yan-qing,LI He-ping,LIU Qing-you,XU Li-ping,ZHANG Lei.Linear sweep voltammetry for analysis of the concentration of copper chloride complex in CuCl2-NaCl solution[J].Metallurgical Analysis,2011,31(5):1-6.
Authors:ZHANG Yan-qing  LI He-ping  LIU Qing-you  XU Li-ping  ZHANG Lei
Affiliation:1. Laboratory for Study of the Earth’s Interior and Geofluids, Institute of Geochemistry, Chinese Academy of Sciences, Guiyang 550002, China; 2. Graduate University of Chinese Academy of Science, Beijing 100049, China; 3. Anhui Institute of Geological Surveying and Mapping, Hefei 230022, China
Abstract:The linear sweep voltammetry of copper chloride solution with and without NaCl was studied at room temperature and atmospheric pressure.The voltammetry curves in potential interval of 0-0.8 V(vs.OCP) were obtained.By comparing the curves of two solutions with scanning rate of 5 mV/s,it was found that Cu2+ reacted with Cl-after adding NaCl to form the complex -which participated in electrochemical reaction.Moreover,the voltammetry curves showed changes as follows: the peak potential of the first peak moved t...
Keywords:CuCl2-NaCl solution  linear sweep voltammetry  copper chloride complex  concentration  
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