| 脉冲激光沉积技术在磁性薄膜制备中的应用 |
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| 引用本文： | 邓联文,江建军,何华辉. 脉冲激光沉积技术在磁性薄膜制备中的应用[J]. 材料导报, 2003, 17(2): 66-68 |
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| 作者姓名： | 邓联文 江建军 何华辉 |
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| 作者单位： | 华中科技大学电子科学与技术系,武汉,430074 |
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| 摘 要： | 脉冲激光沉积制膜（PLD）是近年来迅速发展起来的制膜新技术，首先简要介绍了脉冲激光沉积技术的原理、特点和优势以及在磁性功能薄膜研究中的应用，最后说明了该技术的最新发展趋势。
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| 关 键 词： | 脉冲激光沉积技术 制备 磁性薄膜 外延生长 超晶格 成膜机理 |
Pulsed Laser Deposition and Its Application in Magnetic Films |
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| DENG Lianwen JIANG Jianjun HE Huahui. Pulsed Laser Deposition and Its Application in Magnetic Films[J]. Materials Review, 2003, 17(2): 66-68 |
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| Authors: | DENG Lianwen JIANG Jianjun HE Huahui |
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| Abstract: | The pulsed laser deposition is a new technique for the growth of thin films.Its physical principleand unique characteristics and research progress in this area are introduced briefly.Preparation of magnetic films by PLD is also described. |
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| Keywords: | pulsed laser deposition magnetic film epitaxial growth superlattlce |
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