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工艺条件对电沉积Ni-W合金纳米晶的影响
引用本文:舒霞,昊玉程,郑玉春,王文芳,张勇,李广海,张立德.工艺条件对电沉积Ni-W合金纳米晶的影响[J].稀有金属材料与工程,2005,34(3):413-416.
作者姓名:舒霞  昊玉程  郑玉春  王文芳  张勇  李广海  张立德
作者单位:1. 合肥工业大学,安徽,合肥,230009
2. 合肥工业大学,安徽,合肥,230009;中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031
3. 中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031
基金项目:安徽省自然科学基金资助(00046403)。
摘    要:选择对Ni-W合金电沉积影响较大的钨酸钠浓度、电流密度、镀液pH值、温度等4个工艺参数进行对比实验,探索了各因素对沉积速率、显微硬度、镀层外观的影响,为制备Ni-W合金纳米晶提供依据,同时制备出了晶粒尺寸为10.09nm的Ni-W合金纳米晶镀层。

关 键 词:Ni-W合金  电沉积  纳米晶
文章编号:1002-185X(2005)03-0413-04
修稿时间:2003年7月7日

Influence of Technic Process on the Electrode position Ni-W Alloy Nanocrystalline
Shu Xi,Wu Yucheng,Zheng Yuchun,Wang Wenfang,Zhang Yong,Li Guanghai,Zhang Lide.Influence of Technic Process on the Electrode position Ni-W Alloy Nanocrystalline[J].Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(3):413-416.
Authors:Shu Xi  Wu Yucheng  Zheng Yuchun  Wang Wenfang  Zhang Yong  Li Guanghai  Zhang Lide
Abstract:A contrastive experiment was conducted by using 4 key process parameters, i.e. concentration of sodium tungstate, current density, pH value and temperature that have greater influences on the electro deposition of Ni-W alloy nanocrystalline. Influences on the deposition rate, microhardness and surface of plating were studied respectively, which would provide basis for the preparation of Ni-W alloy nanocrystalline. At the same time, the plating of Ni-W alloy nanocrystalline was obtained, the size of which was10.09 nm.
Keywords:Ni-W alloy  electro-deposition  nanocrystalline
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