三氧化二铬薄膜的制备及应用研究进展

三氧化二铬(Cr_2O_3)薄膜具有高熔点、高硬度、低摩擦系数和耐磨损等优点,是应用非常广泛的一种薄膜材料。介绍了Cr_2O_3薄膜常用的制备方法,包括化学气相沉积法、蒸发诱导组装法、磁控溅射法、脉冲激光沉积法、分子束外延法等,并进行了比较分析。阐述了Cr_2O_3薄膜在扩散阻挡层、耐磨损保护层、薄膜电阻器件、金属材料保护层、电子开关材料、电极材料、气敏材料等方面的应用。对Cr_2O_3薄膜的制备方法及应用进行了展望。