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基于神经网络的AZO薄膜制备工艺参数的正交优化设计
引用本文:范丽琴.基于神经网络的AZO薄膜制备工艺参数的正交优化设计[J].化工新型材料,2019,47(7):130-134.
作者姓名:范丽琴
作者单位:厦门工学院,厦门,361021
基金项目:福建省中青年教师教育科研项目
摘    要:采用磁控溅射法制备AZO薄膜,研究和讨论了溅射功率、溅射时间和溅射气压3个工艺参数对AZO薄膜光学和电学性能的影响。采用正交优化设计,对3个工艺参数进行优化,测量了透射率和电阻率,以此作为薄膜光电性能的评价指标,通过极差值分析确定了制备薄膜的最佳工艺参数。影响薄膜透射率的最主要因素为溅射气压;影响电阻率的最主要因素为溅射时间。获得制备高透射率低电阻率的AZO薄膜的最佳工艺组合方案为溅射功率为400W、溅射时间为1000s、溅射气压为1.0Pa。将反馈型(BP)神经网络应用于磁控溅射AZO薄膜光学性能(可见光区的平均透射率)和电学性能(电阻率)的研究。输入样品数据对神经网络进行训练,建立AZO薄膜光电性能随溅射参数变化的预测模型。

关 键 词:正交设计  掺铝氧化锌  光电学性质  BP神经网络

Orthogonal optimization design of process parameter for AZO thin film preparation based on neural network
Fan Liqin.Orthogonal optimization design of process parameter for AZO thin film preparation based on neural network[J].New Chemical Materials,2019,47(7):130-134.
Authors:Fan Liqin
Affiliation:(School of Xiamen Institute of Technology,Xiamen 361021)
Abstract:Fan Liqin(School of Xiamen Institute of Technology,Xiamen 361021)
Keywords:orthogonal design  aluminum-doped zinc oxide film  photoelectric property  BP neural network
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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