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硼掺杂石墨相氮化碳及其光催化性能研究
引用本文:马元功,郭小峰,吴启凡,王宏波,向前,柴坝.硼掺杂石墨相氮化碳及其光催化性能研究[J].化工新型材料,2019,47(6):204-210.
作者姓名:马元功  郭小峰  吴启凡  王宏波  向前  柴坝
作者单位:重庆交通大学材料科学与工程学院,重庆,400000;重庆交通大学材料科学与工程学院,重庆,400000;重庆交通大学材料科学与工程学院,重庆,400000;重庆交通大学材料科学与工程学院,重庆,400000;重庆交通大学材料科学与工程学院,重庆,400000;重庆交通大学材料科学与工程学院,重庆,400000
基金项目:重庆市科学技术委员会基础与前沿研究计划;山区桥梁与隧道工程国家重点实验室培育基地(重庆交通大学)开放基金;国家内河航道整治工程技术研究中心(重庆交通大学)开放基金;交通土木工程材料国家和地方联合工程实验室开放基金
摘    要:以硼砂、硼酸、氧化硼为硼源对石墨相氮化碳(g-C3N4)进行硼掺杂,通过一系列实验确定了最优的掺杂硼源、掺杂温度和掺杂比例,并对掺杂处理方法进行了优化。通过XRD、UV-Vis、XPS、FT-IR、PL、TEM和SEM等手段对样品进行表征分析,以罗丹明B为降解用污染物测试样品的光催化活性。结果表明:硼的掺入拓宽了样品对可见光的响应范围,减小了样品的能带宽度,提高了对可见光的利用率,同时抑制了光生电子-空穴的复合,增加了比表面积,进而显著提高了样品的光催化性能。其中样品B-CN(1∶6)光催化活性最高,其光催化降解罗丹明B的速率常数是g-C3N4的3.1倍。

关 键 词:石墨相氮化碳  光催化  掺杂  罗丹明B

Study on boron-doped graphitic carbon nitride and its photocatalytic property
Ma Yuangong,Guo Xiaofeng,Wu Qifan,Wang Hongbo,Xiang Qian,Chai Ba.Study on boron-doped graphitic carbon nitride and its photocatalytic property[J].New Chemical Materials,2019,47(6):204-210.
Authors:Ma Yuangong  Guo Xiaofeng  Wu Qifan  Wang Hongbo  Xiang Qian  Chai Ba
Affiliation:(School of Material Science and Engineering, Chongqing Jiaotong Universify,Chongqing 400000)
Abstract:Ma Yuangong;Guo Xiaofeng;Wu Qifan;Wang Hongbo;Xiang Qian;Chai Ba(School of Material Science and Engineering, Chongqing Jiaotong Universify,Chongqing 400000)
Keywords:graphitic carbon nitride  photocatalysis  doping  rhodamine B
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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