| 光变色薄膜模拟设计及制备技术 |
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| 引用本文： | 王淑娟,姚伟刚,惠超,马月,吴琼.光变色薄膜模拟设计及制备技术[J].兰州工业高等专科学校学报,2023(5):37-42. |
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| 作者姓名： | 王淑娟 姚伟刚 惠超 马月 吴琼 |
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| 作者单位： | 西安益通热工技术服务有限责任公司 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(59493300)；;教育部博士点基金(9800462)； |
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| 摘 要： | 为提升光变色薄膜的耐溶剂、附着力等性能并推进其产业化发展，利用理论模拟与试验相结合的方法研究制备不同结构的光变色薄膜。采用箱式热蒸发和卷对卷磁控溅射技术，在12μm超薄PET衬底上制备了不同介质材料和厚度结构的变色薄膜，并对样品进行了光谱、光学显微、附着力及耐溶剂测试。结果表明：热蒸发制备的Ag/MgF2/Cr样品可以实现预定的变色效果，但光学显微测试发现热蒸发制备的薄膜存在大量的微观龟裂纹，耐溶剂测试容易剥离；增加二氧化硅底层后制备的Ag/SiO2/MgF2/Cr结构薄膜可以在一定程度上减少龟裂纹，但是耐溶剂性仍较差；采用卷对卷磁控技术制备的Ag/SiO2/Cr结构样品，模拟设计的反射光谱曲线与实际制备的薄膜光谱曲线吻合度更好，且薄膜样品附着力和耐溶剂性良好，未出现龟裂现象，适合批量化的薄膜制备及应用。
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| 关 键 词： | 随角异色 热蒸发 磁控溅射 复合薄膜 |
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