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| 极紫外光刻技术 | |
| 作者姓名： | 童志义 |
| 作者单位： | 信息产业部电子第四十五研究所!甘肃平凉744000 |
| 摘 要： | 介绍了美国和欧洲在极紫外光刻技术的开发和研究中的进展和发展极紫外光刻的关键技术,展望了EUVL作为下一代候选光刻技术的可能性 |
| 关 键 词： | 光刻 极紫外光源 多层涂复 扫描曝光 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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