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国外新材料、新工艺专利信息
引用本文:陈彦婷.国外新材料、新工艺专利信息[J].材料工程,1989(5).
作者姓名:陈彦婷
作者单位:民航干部管理学院
摘    要:相变型光记录材料 据英国德温特《化学专利文摘》1988年第44期(周刊)报道,日本于1988年9月20日公布了一项光记录材料专利(专利号J3225933)。 相变型光记录材料具有一层透明的基底,光记录介质是一种合金薄膜,主要成分是Sb和Au,此外至少含Se、Bi、As、Te和Zn等元素中的一种。Sb和An的比例(摩尔比率)为4:1~1:1,其他元素含2~50原子%。

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