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| 影响1.06μm光学薄膜激光损伤因素的实验研究 | |
| 作者姓名： | 赵强 范正修 |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所!上海市800─211信箱，201800(赵强，范正修，刘立明，范瑞瑛)，中国科学院上海 (黄日成) |
| 摘 要： | 本文对光学薄膜淀积过程中真空室的真空环境对薄膜激光损伤的影响了理论与实验方面的分析，对分子泵，扩散泵真空系统及扩散泵＋离子束辅助淀积（ＩＡＤ）制备出的膜系样品所进行的损伤实验表明，分子泵系统制备出的薄膜显示出较高的损伤阈值。 |
| 关 键 词： | 真空环境 光学薄膜 激光损伤阈值 |
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