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| 共溅射沉积的TbFeCo薄膜 | |
| 引用本文： | 王伟杰,余维嘉,姚新华,肖宗耀.共溅射沉积的TbFeCo薄膜[J].真空科学与技术学报,1991(6). |
| 作者姓名： | 王伟杰 余维嘉 姚新华 肖宗耀 |
| 作者单位： | 中国科学院上海冶金研究所 (王伟杰，余维嘉，姚新华)，中国科学院上海冶金研究所(肖宗耀) |
| 摘 要： | 本文介绍了利用射频共溅射技术制备垂直膜面单轴各向异性TbFeCo磁光薄膜,并研究了该薄膜的磁、磁光和读写性能。测试结果表明,这种TbFeCo薄膜的磁光盘其载噪比和擦写循环分别达到48dB和1×10~6次以上。该磁光盘可适用于数据存储。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |