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纳米碳管催化CVD工艺中多物理场的耦合模拟分析
引用本文:赵建国,刘朗,郭全贵,史景利,翟更太.纳米碳管催化CVD工艺中多物理场的耦合模拟分析[J].材料工程,2007(Z1).
作者姓名:赵建国  刘朗  郭全贵  史景利  翟更太
摘    要:为了研究工艺参数对于化学气相沉积工艺制备纳米碳管的影响,建立了描述CVD工艺的2D轴对称几何模型,对CVD工艺中的温度场,前驱体浓度场、速度场进行了耦合模拟分析.研究结果表明在CVD炉内沿轴向存在一个很大的温度梯度,但高温沉积区域温度均匀稳定,前驱体乙炔浓度适中,有利于纳米碳管的生长.模拟结果的精确度高,可用于纳米碳管CVD工艺的参数优化,最终达到在计算机上做实验的目的.

关 键 词:纳米碳管  化学气相沉积  数值模拟

Multi-physical Simulation of CVD Process for Growth of Carbon Nanotubes
ZHAO Jian-guo,LIU Lang,GUO Quan-gui,SHI Jing-li,ZHAI Geng-tai.Multi-physical Simulation of CVD Process for Growth of Carbon Nanotubes[J].Journal of Materials Engineering,2007(Z1).
Authors:ZHAO Jian-guo  LIU Lang  GUO Quan-gui  SHI Jing-li  ZHAI Geng-tai
Abstract:
Keywords:
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