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杂志ISSN号
中科院物理所成功研制6英寸碳化硅单晶衬底
作者姓名:
Scott
摘 要:
碳化硅(SiC)单晶是一种宽禁带半导体材料,具有禁带宽度大、临界击穿场强大、热导率高、饱和漂移速度高等诸多特点,被广泛应用于制作高温、高频及大功率电子器件。此外,由于SiC和氮化镓(GaN)的晶格失配小,SiC单晶是GaN基LED、肖特基二极管、MOSFET、IGBT、HEMT等器件的理想衬底材料。为降低器件成本,下游产业对SiC单晶衬底提出了大尺寸的要求,目前国际市场上已有6英寸(150mm)产品,预计市场份额
关 键 词:
硅单晶
肖特基二极管
功率电子器件
器件成本
击穿场强
氮化镓
晶格失配
禁带
中科院物理所
晶体研究
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