| 微波电子回旋共振等离子体刻蚀技术 |
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| 引用本文： | 丁振峰 邬钦崇. 微波电子回旋共振等离子体刻蚀技术[J]. 真空电子技术, 1996, 0(6): 1-8 |
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| 作者姓名： | 丁振峰 邬钦崇 |
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| 作者单位： | 中国科学院等离子体物理研究所 |
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| 摘 要： | 本文介绍各种类型ＥＣＲ等离子体源和工艺研究，以及由此发展形成的几种新型刻蚀技术。
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| 关 键 词： | 电子回旋共振等离子体，反应离子刻蚀，离子能量 |
Microwave Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching Technology |
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| Ding Zhenfeng, Wu Chincong,Ren Zhaoxing. Microwave Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching Technology[J]. Vacuum Electronics, 1996, 0(6): 1-8 |
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| Authors: | Ding Zhenfeng Wu Chincong Ren Zhaoxing |
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| Abstract: | in this paper,the development of various types of electron cyclotron resonance plasma ECR sources,the studies of etching schemes and several kinds of new etching technology basedon electron cyclotron resonance plasma will be introduced. |
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| Keywords: | Electron cyclotron resonance plasma Reactive ion etching Ion energy |
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