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一种适用于射频集成电路的抗击穿LDMOS设计
引用本文:李春燕,杨发顺,马奎,王代强. 一种适用于射频集成电路的抗击穿LDMOS设计[J]. 电子设计工程, 2013, 21(7): 115-117
作者姓名:李春燕  杨发顺  马奎  王代强
作者单位:贵州大学理学院,贵州贵阳,550025
摘    要:提出了一种具有深阱结构的RF LDMOS,该结构改善了表面电场分布,从而提高了器件的击穿电压。通过sil-vaco器件模拟软件对该结构进行验证,并对器件的掺杂浓度、阱宽、阱深、栅长进行优化,结果表明,在保证LDMOS器件参数不变的条件下,采用深阱工艺可使其击穿电压提升50%以上。

关 键 词:LDMOS  击穿电压  漂移区  雪崩击穿

Design of LDMOS device for breakdown protection in RF IC
LI Chun-yan , YANG Fa-shun , MA Kui , WANG Dai-qiang. Design of LDMOS device for breakdown protection in RF IC[J]. Electronic Design Engineering, 2013, 21(7): 115-117
Authors:LI Chun-yan    YANG Fa-shun    MA Kui    WANG Dai-qiang
Affiliation:(College of Science,Guizhou University,Guiyang 550025,China)
Abstract:
Keywords:
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