| 脉冲准分子激光扫描沉积(PLD)高c轴取向V_2O_5/Si薄膜及结构分析 |
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| 引用本文： | 方国家,刘祖黎,王又青,周远明,姚凯伦. 脉冲准分子激光扫描沉积(PLD)高c轴取向V_2O_5/Si薄膜及结构分析[J]. 硅酸盐学报, 2001, 0(1) |
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| 作者姓名： | 方国家 刘祖黎 王又青 周远明 姚凯伦 |
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| 作者单位： | 华中科技大学激光技术国家重点实验室!武汉430074 华中科技大学物理系，武汉430074 襄樊学院，湖北襄樊44105，华中科技大学物理系!武汉430074，华中科技大学激光技术国家重点实验室!武汉430074，襄樊学院!湖北襄樊441053，华中科技大学激光技术国家重点实验室!武汉430074 华中科技大 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目!(19775 0 16)，湖北省自然科学基金资助项目!(99J0 49) |
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| 摘 要： | 采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术 ,在Si(111)单晶衬底上沉积了多晶V2 O5 薄膜 ,经 3 0 0℃以上退火处理得到了具有高c -轴取向生长的V2 O5 薄膜 .3 0 0℃以上热退火处理的薄膜表面具有正常的化学计量比 (无氧缺位 ) ,晶粒间界明显 ,晶粒呈针棒状 ,晶粒尺寸在10 0～ 2 0 0nm之间 .采用X射线衍射 (XRD)、Raman光谱 (RS)、Fourier红外光谱 (FT -IR)及透射电镜扫描附件 (STEM )对沉积及不同温度下退火处理的样品进行了结构分析 .研究结果表明 :V2 O5 /Si薄膜经 40 0℃热处理后表面部分处于低价态的钒离子已被氧化为V2 O5 .
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| 关 键 词： | 五氧化二钒薄膜 高c-轴取向 脉冲准分子激光沉积 结构分析 |
PREPARATION AND STRUCTURAL PROPERTIES OF HIGHLY c-AXIS ORIENTED V_2O_5 THIN FILMS BY PULSED LASER DEPOSITION |
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| Fang Guojia ,,,Liu Zuli ,Wang Youqing ,Zhou Yuanming ,Yao Kailun ,. PREPARATION AND STRUCTURAL PROPERTIES OF HIGHLY c-AXIS ORIENTED V_2O_5 THIN FILMS BY PULSED LASER DEPOSITION[J]. Journal of The Chinese Ceramic Society, 2001, 0(1) |
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| Authors: | Fang Guojia Liu Zuli Wang Youqing Zhou Yuanming Yao Kailun |
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| Affiliation: | Fang Guojia 1,2,3,Liu Zuli 2,Wang Youqing 1,Zhou Yuanming 3,Yao Kailun 1,2,4 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | vanadium oxide thin films highly c -axis oriented growth pulsed laser deposition technique structural analyses |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
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