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| 有机硅废触体处理的研究进展 | |
| 引用本文： | 胡耀一,杨淑玉,王秋晶,武明,陕绍云,杨玺,何云飞.有机硅废触体处理的研究进展[J].有机硅材料,2024(1):81-86. |
| 作者姓名： | 胡耀一 杨淑玉 王秋晶 武明 陕绍云 杨玺 何云飞 |
| 作者单位： | 1. 昆明理工大学化学工程学院;4. 云南省能源研究院有限公司 |
| 基金项目： | 云南省科技厅基础研究专项面上项目(202101AT070034)； |
| 摘 要： | 综述了有机硅废触体处理的研究进展，介绍了包括氧化还原回收铜、废触体深度转化和其他用途在内的3种处理方法及其处理效果的影响因素，并展望了有机硅废触体处理的发展方向。 |
| 关 键 词： | 有机硅 废触体 铜 硅 |