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DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
有机硅废触体处理的研究进展
作者姓名:
胡耀一
杨淑玉
王秋晶
武明
陕绍云
杨玺
何云飞
作者单位:
1. 昆明理工大学化学工程学院;4. 云南省能源研究院有限公司
基金项目:
云南省科技厅基础研究专项面上项目(202101AT070034);
摘 要:
综述了有机硅废触体处理的研究进展,介绍了包括氧化还原回收铜、废触体深度转化和其他用途在内的3种处理方法及其处理效果的影响因素,并展望了有机硅废触体处理的发展方向。
关 键 词:
有机硅
废触体
铜
硅
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