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超临界二氧化碳在微电子技术中的应用
引用本文:刘建慧,牟天成,王更华. 超临界二氧化碳在微电子技术中的应用[J]. 应用化工, 2008, 37(3): 330-333
作者姓名:刘建慧  牟天成  王更华
作者单位:1. 鲁东大学,化学与材料科学学院,山东,烟台,264025
2. 中国人民大学,化学系,北京,100872
3. 栖霞市实验中学,山东,栖霞,265300
摘    要:超临界流体和高压液体在微电子领域的应用得到了广泛的研究,研究内容主要集中在芯片清洗,光刻胶去除,清洗后干燥等方面。此外,超临界流体还在低介电材料的保护和修复,显影和旋涂,微器件制造等方面有非常好的应用前景。上述超临界过程常可以解决常规处理无法解决的问题,极大的发挥了超临界流体的优势,将会是未来超临界流体的主要应用方向。

关 键 词:超临界流体  微电子  清洗  干燥
文章编号:1671-3206(2008)03-0330-04
修稿时间:2008-01-17

Application of supercritical CO2 in microelectronics industry processing
LIU Jian-hui,MU Tian-cheng,WANG Geng-hua. Application of supercritical CO2 in microelectronics industry processing[J]. Applied chemical industry, 2008, 37(3): 330-333
Authors:LIU Jian-hui  MU Tian-cheng  WANG Geng-hua
Abstract:Applications of supercritical fluids and elevated pressure liquid in microelectronics industry have been a subject of intense research.These researches include chips cleaning,photoresist stripping,drying etc.Besides these fields,the supercritical fluids show a promising application in the low dielectric material protecting and restoring,developing and spinning,microstructure fabrication,etc.Based on the unique properties of supercritical fluids,the most difficult problems in microelectronics industry can be solved.These topics will be the major application fields of supercritical fluids in the future.
Keywords:supercritical fluid  microelectronics  cleaning  drying
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