首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

磁光盘甩胶工艺研究
引用本文:杨峰 张晓卫. 磁光盘甩胶工艺研究[J]. 电子工艺技术, 1997, 18(4): 152-153,156
作者姓名:杨峰 张晓卫
作者单位:成都电子科技大学
摘    要:胶层特性是影响磁光盘性能的重要因素,通过实验研究了甩胶工艺对胶层特性的影响,通过调整滴胶量、甩胶时间和电机速来控制胶层的厚度,提高胶层的均匀性,以满足磁光盘生产的需要。

关 键 词:甩胶工艺 厚度均匀性 磁光盘

Study of Magneto-optic Disks Lacquering Technics
Yang feng Zhang Xiaowei Yang Chengtao. Study of Magneto-optic Disks Lacquering Technics[J]. Electronics Process Technology, 1997, 18(4): 152-153,156
Authors:Yang feng Zhang Xiaowei Yang Chengtao
Abstract:
Keywords:Lacquering technics Thickness Thichness uniformity  
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号