|
|||||
|
|
| 脉冲激光法外延生长新型锰氧化物YNi0.5Mn0.5O3薄膜 | |
| 引用本文： | 马衍伟,M.Guilloux-Viry,O.Pena,C.Moure. 脉冲激光法外延生长新型锰氧化物YNi0.5Mn0.5O3薄膜[J]. 中国有色金属学报, 2004, 14(Z2): 466-468 |
| 作者姓名： | 马衍伟 M.Guilloux-Viry O.Pena C.Moure |
| 作者单位： | 1. 中国科学院,电工研究所应用超导重点实验室,北京,100080 2. UMR 6511,CNRS-Universitede Rennes 1,35042 Rennes,France 3. Instituto de Ceramica y Vidrio,CSIC,28049 Madrid,Spain |
| 摘 要： | 利用脉冲激光法在SrTiO3衬底上外延生长了新型锰氧化物Yni0.5Mn0.5O3薄膜.通过实验发现,在STO衬底上生长的薄膜均为高度一致的(00l)取向、外延生长的单相膜.薄膜的居里转变温度等值于相应块材的温度;薄膜和块材的磁特性明显不同,薄膜呈现一种典型的团簇玻璃特征.此外,探讨了这一薄膜的外延生长与其磁特性的关系. |
| 关 键 词： | 外延生长 脉冲激光法 YNi0.5Mn0.5O3薄膜 磁特性 |
| 文章编号： | 1004-0609(2004)S3-0466-03 |
Expitaxial growth of new type manganese oxide YNi0.5Mn0.5O3 films by pulse laser method |
|
| M.Guilloux-Viry,O.Pena,C.Moure. Expitaxial growth of new type manganese oxide YNi0.5Mn0.5O3 films by pulse laser method[J]. The Chinese Journal of Nonferrous Metals, 2004, 14(Z2): 466-468 | |
| Authors: | M.Guilloux-Viry O.Pena C.Moure |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |