|
|||||
|
|
| 基于仿真分析的设备微环境控制技术 | |
| 作者姓名： | 杨师 史霄 杨元元 李龙飞 王洪宇 |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京 100176 |
| 摘 要： | 论述了一种基于仿真分析的半导体设备内部空间气流路径、紊流位置、各分区风压的闭环反馈系统及结构,目的在于使设备能够自动净化内部空间气体,防止颗粒凝结,从而达到控制并改善半导体设备内部微环境的目的. |
| 关 键 词： | 集成电路 芯片 微环境 CMP工艺 |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |