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| 磁控溅射离子镀膜组织与相结构研究 | |
| 作者姓名： | 王斐杰 陈宝清 王家祥 牛铁永 朱英臣 王玉魁 |
| 作者单位： | 大连工学院材料系离子工学研究室，大连工学院材料系离子工学研究室，大连工学院材料系离子工学研究室，大连工学院材料系离子工学研究室，大连工学院材料系离子工学研究室，大连工学院材料系离子工学研究室 |
| 摘 要： | 本文主要应用JEM-100CXⅡ型透射电镜研究在铜基材上、负偏压1500伏时、磁控溅射离子镀铝膜的组织与相结构。磁控溅射离子镀(简称“CLD”),是以磁控溅射力镀材蒸发源、进行离子镀的一项最新物理气相沉积表面技术。它是在“中低真空”下(铜基镀铝时2×10~(-3)Torr),利用A_r~+气电离作用使从靶上被溅射下来的铝,离 |
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