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缓冲层和保护层对Ta(Ti)/Co/Nb多层膜热稳定性影响
作者姓名:黄彦翔  任康  丁俊贤  贡佳伟  许文涛  赵文礼  李涛  章健康  谢俊磊  徐耀鸿  丁泽豪  朱济生  李广  王磊
作者单位:1. 安徽大学材料科学与工程学院;2. 安徽大学安徽省信息材料与器件重点实验室
摘    要:采用磁控溅射法制备底层(BL)/钴(Co)/顶层(CL)三层膜,通过考察Co磁矩(M)与温度(T)的关系,系统分析了不同BL和CL对Co层热稳定性的影响。其中BL和CL分别为非磁性过渡金属钽(Ta)、钛(Ti)和铌(Nb)。研究发现,不同的非磁性底层和顶层材料对Co的热稳定性有着不同的影响,其中Ti作为BL和CL时Co的热稳定性最好。此外,与BL相比,CL在Co层的M-T具有更重要的影响,相同的CL其Co具有类似M-T曲线。实验结果可以解释为非磁性BL和CL与Co之间存在的耦合相互作用。这揭示出在纳米级多层膜中,通常用于促进晶体结构和防止氧化的底部非磁性缓冲层和顶部保护层可能对其相邻的磁性层的磁性能产生影响。

关 键 词:Ta(Ti)/Co/Nb多层膜  钴热稳定性  底层(缓冲层)  顶层(保护层)
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