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| HIT太阳电池中ITO薄膜的结构和光电性能 | |
| 引用本文： | 任丙彦,刘晓平,许颖,王敏花,廖显伯. HIT太阳电池中ITO薄膜的结构和光电性能[J]. 太阳能学报, 2007, 28(5): 504-507 |
| 作者姓名： | 任丙彦 刘晓平 许颖 王敏花 廖显伯 |
| 作者单位： | 1. 河北工业大学(院部)信息功能材料研究所,天津,300130 2. 河北工业大学(院部)信息功能材料研究所,天津,300130;北京市太阳能研究所,北京,100083 3. 北京市太阳能研究所,北京,100083;中科院半导体所表面物理室,北京,100083 4. 中科院半导体所表面物理室,北京,100083 |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射技术在不同射频功率下沉积了ITO薄膜,并将其应用于HIT太阳电池。分析了薄膜的结构、光电特性。结果表明,在120W时制备的薄膜很好地兼顾了电阻率和光透过率,其电阻率为3.48×10-4Ω.cm、在350~800 nm波段的平均光透过率为87.1%,将其应用于HIT太阳电池上,电池的转换效率可达13.38%。 |
| 关 键 词： | 氧化铟锡薄膜 射频磁控溅射 陶瓷靶 HIT太阳电池 |
| 文章编号： | 0254-0096（2007）05-0504-04 |
| 修稿时间： | 2006-06-19 |
STRUCTURAL AND PHOTOELECTRIC PROPERTY OF ITO THIN FILMS FOR HIT SOLAR CELLS |
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| Ren Bingyan,Liu Xiaoping,Xu Ying,Wang Minhua,Liao Xianbo. STRUCTURAL AND PHOTOELECTRIC PROPERTY OF ITO THIN FILMS FOR HIT SOLAR CELLS[J]. Acta Energiae Solaris Sinica, 2007, 28(5): 504-507 | |
| Authors: | Ren Bingyan Liu Xiaoping Xu Ying Wang Minhua Liao Xianbo |
| Affiliation: | 1. School of Material Science and Engineering Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China ; 2. Beijing Solar Energy Research Institute, Beijing 100083, China; 3. Institute of Semiconductors Chinese Academy of Sciences, Beijing 100083, China |
| Abstract: | |
| Keywords: | indium tin oxide radio-frequency magnetron sputtering ceramic target HIT solar cells |
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