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| 电子回旋共振-微波等离子体化学气相沉积法制备a—C：H（N）薄膜 | |
| 作者姓名： | 李新 唐祯安 马国佳 邓新绿 |
| 作者单位： | [1]大连理工大学电子工程系微系统研究中心，辽宁大连116024 [2]大连理工大学三束材料改性国家重点实验室，辽宁大连116024 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50135040). |
| 摘 要： | 采用电子回旋共振-微波等离子体化学气相沉积技术，使用CH4和N2混合气作为反应气体，在硅衬底上制备掺氮含氢非晶碳(a—C：H(N))薄膜。紫外Raman光谱证实了薄膜的类金刚石特性；傅立叶变换红外光谱表明薄膜中存在CH和CN键结构。采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的微观表面形貌，结果表明薄膜表面光滑。论文详细叙述了薄膜制备工艺，对测试结果进行了分析讨论，也对这种薄膜在微电子机械系统中的潜在应用进行了探讨。 |
| 关 键 词： | 电子回旋共振-微波等离子体化学气相沉积法 制备 CH4 N2 非晶碳薄膜 紫外Raman光谱 原子力显微镜 |
| 文章编号： | 1002-0322(2003)05-0028-03 |
| 修稿时间： | 2003-07-09 |
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