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半导体工艺中基片的冷却方法
引用本文:安志超.半导体工艺中基片的冷却方法[J].微细加工技术,1987(Z1).
作者姓名:安志超
作者单位:长沙半导体工艺设备研究所
摘    要:本文首先叙述冷却基片的各种方法。然后介绍LK—2型离子束蚀刻机所采用的半导体致冷器冷却基片的方法。在典型的工作条件下,对半导体致冷器冷却效果进行了测量,根据基片的温升曲线、表明采用半导体致冷器冷却基片是一个有效方法。

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