上海光机所研制成功多路并行激光直写系统

2010年11月，上海光机所周常河研究员课题组成功研制出多路激光直写装置。该装置采用405nm的蓝光激光光源．尼康0．9数值孔径的透镜，以及自动聚焦系统，实现了25路高精度并行激光直写，刻写光斑的线宽小于600nm。相比于传统激光直写系统，该装置在刻写速度和效率方面有了很大的提高，几十倍地缩短了激光直写时间，可以快速制作大尺寸、高精度衍射光学元件。