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TC4钛合金熔盐电解法渗硼
引用本文:王碧侠,程亮,田栋华.TC4钛合金熔盐电解法渗硼[J].金属热处理,2015,40(7):133.
作者姓名:王碧侠  程亮  田栋华
作者单位:西安建筑科技大学 冶金工程学院,陕西省资源与黄金重点实验室
基金项目:国家自然科学基金(51404186);陕西省教育厅科研计划项目(13JS060)
摘    要:采用熔盐电解法对TC4合金表面渗硼。用质量比为8:2的无水硼砂-无水碳酸钠熔盐体系在1500~4500 A/m2的电流密度下进行渗硼实验,利用XRD对渗硼试样表面进行物相分析,用扫描电镜观察渗硼试样的断面形貌并用能谱(EDS)进行元素分析,研究了电流密度对渗层结构的影响,并对TC4合金的渗硼机理进行了分析。结果表明,电流密度为3500 A/m2时渗硼效果较好,渗层外层结构均匀密实,主要物相是TiB2,内层为TiB,渗层中还检测到少量V2B3。综合考虑实验结果及反应的标准吉布斯自由能计算推测出TC4合金渗硼时,在电流作用下,先在合金表面还原生成Na,然后Na将B2O3中的B置换,与合金的Ti反应生成TiB2及TiB。

关 键 词:熔盐电解  渗硼  TC4  TiB2  电流密度  

Boronizing of TC4 titanium alloy by molten salt electrolysis
Wang Bixia,Cheng Liang,Tian Donghua.Boronizing of TC4 titanium alloy by molten salt electrolysis[J].Heat Treatment of Metals,2015,40(7):133.
Authors:Wang Bixia  Cheng Liang  Tian Donghua
Affiliation:The Provincial key laboratory of Gold and Resource in Shaanxi, School of Metallurgical Engineering, Xi’an University of Architecture & Technology
Abstract:
Keywords:molten salt electrolysis  boronizing  TC4  TiB2  current density  
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